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武汉光电子信息产业园 |
国家信息光电子创新中心介绍,中国电子联合创新研究院
4月26日,国家信息光电创新中心在武汉烽火科技园正式揭牌,成为《中国制造2025》国家正式授予的第二批创新中心,也是湖北省获得的首个国家级制造业创新中心。 绕了一遍这个官方奖项,我的脑子一转,惊讶地发现——"国家信息光电子创新中心"就坐落在这里。大厅里最引人注目的是全球单芯片速率最高的1.6Tbit/s硅光互连芯片。 总经理肖曦分享新进展:"4月26日,我们刚刚发布了全球最高速的硅基芯片
简介:武汉光谷信息光电创新中心有限公司成立于2017年1月6日,法定代表人黄轩泽,注册资本1.6亿元,统一社会信用代码:91420100MA4KQJK03R,公司地址位于武汉东湖新技术开发国家信息中心。 光电创新中心正式成立。
面向未来,国家信息光电子创新中心致力于汇聚行业优势创新资源,打造信息光电子产业创新平台,重点实现下一代网络、数据中心光互连、5G接入、高端材料生产国家等信息光电子应用。 信息光电子创新中心于2017年10月31日获得工业和信息化部批准,落户武汉中国光谷,致力于突破产业链关键共性技术瓶颈,推动成果转化,支撑新一代信息技术产业发展。 该中心由我国信息光电领域
4.国家信息光电子创新中心该创新中心将聚集行业优势创新资源,围绕高速光芯片、硅光芯片、量子芯片、集成芯片四个方向,聚焦新一代网络、数据中心光互连、5G等信息光电子领域。 在应用领域,国家信息光电子创新中心面向新一代网络、数据中心光互连、5G等信息光电子领域,旨在突破高端材料增长、核心芯片技术、先进封装集成等关键技术和共性技术瓶颈,早日实现信息光电子产业所需的核心
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