佳能芯片生产技术新突破,佳能印刷芯片

佳能芯片生产技术新突破,佳能印刷芯片

虽然佳能的光刻机属于低端，但半导体厂商掀起了扩产浪潮，光刻机的需求激增。佳能的光刻机业务不断增长，技术不断创新。 今年4月，外媒报道称，正在内部开发"三维（3D）"技术的佳能近日宣布开始销售一款名为FPA-1200NZ2C的芯片生产设备。该设备采用纳米打印技术，只能生产5纳米芯片。 与目前主流的EUV技术相比，纳米打印技术提供了一种绕过EUV的新途径。

与此同时，日本芯片厂商开始大举进军欧美芯片制造市场，这对欧美芯片产生了巨大影响。 当我们谈论佳能和尼康时，我们会想到相机。事实上，这两家公司也是光刻机领域的主导者。 欧美芯片企业也惧怕日本光刻机企业。可以说，光刻机决定了芯片工艺的技术水平。 如果我们想避免卡在芯片上，我们必须突破光刻机。 事实上，相关部门一直在努力，最近就有国产沉浸式光刻机的消息。 光刻机按照光源来划分，主要包括极紫外EUV、深紫光

这套新设备可应用于最小尺寸为14平方毫米的硅片，从而生产出匹配5纳米工艺的芯片。 这一创新表明佳能正在探索突破传统技术限制的替代制造方法。 据ITBEAR科技数据，英国《金融时报》网站8月25日报道称，在美国盟国实施出口限制之前，中国半导体设备进口激增并创下新纪录。 中国海关数据显示，今年6月和7月，中国芯片生产机器或设备的进口总额接近

⊙﹏⊙‖∣° 光刻机无疑是芯片制造设备中最重要的设备之一。 光刻设备对光学技术和供应链要求极高，技术壁垒极高，已成为高度垄断的行业。 ASML、尼康、佳能牢牢占据了光刻技术和设备，这是需要解决的关键问题。 尼康和佳能作为老牌光学厂商，也开始了各自的光刻机研发任务。

佳能光刻机选择NIL（纳米压印技术）来绕过EUV光源的限制，实现先进工艺的芯片制造。 NIL（纳米压印技术）的简单理解就是将电路板雕刻在特殊材料上，从而完成像"印章"一样的核心工艺。10月13日，据佳能官网消息，佳能正式推出了最先进的新一代纳米压印（NIL）设备FPA-1200NZ2C。 图片：佳能官网佳能宣布NIL技术可以实现最小线宽14nm的图案化，相当于首次量产。